电子束蒸发是物理气相沉积（PVD）的一种方法。它使用聚焦的高能电子束加热和蒸发源材料，尤其是高熔点材料。这种技术的优点是可以达到很高的蒸发温度，而不会受到坩埚的严重污染。
电子束蒸发的原理是什么？4 个关键步骤说明
1.产生高能电子束
在电子束蒸发过程中，电子通过焦耳加热从灯丝（通常由钨制成）中发射出来。然后，这些电子被高压电场（通常高达 100 千伏）加速，从而获得高动能。
2.光束聚焦和撞击
强磁场将加速的电子聚焦成光束，然后将光束对准装有待蒸发材料的坩埚。撞击时，电子的动能转化为热能，将材料加热到蒸发点。
3.材料蒸发和沉积
电子束产生的热能足以使材料蒸发，然后凝结在基底上形成薄膜。这一过程发生在一个高度局部化的点上，最大程度地减少了坩埚的污染。
4.能量损耗和反应沉积
部分电子能量会通过产生 X 射线和二次电子发射而损耗。此外，在蒸发过程中引入氧气或氮气等反应性气体分压，可通过化学反应促进非金属薄膜的沉积。
这种方法对钨和钽等高熔点材料的沉积特别有效，而且由于其局部加热和坩埚相互作用最小，还能获得高纯度涂层。
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