蒸发镀膜是一种将薄膜应用到基底上的工艺。
其方法是在真空环境中将材料加热至蒸发点。
蒸发后的材料会凝结在基材表面。
这种方法广泛应用于电子、光学和航空航天等行业。
它有助于在元件上形成功能层。
蒸发镀膜的过程是怎样的？4 个关键步骤说明
1.材料制备
将涂层材料放入真空室中的合适容器中。
容器可以是蒸发舟或坩埚。
容器的选择取决于材料的特性和加热方法。
例如，易氧化的材料可能会被放置在舟形蒸发器中。
其他材料可能需要熔点高的坩埚。
2.加热材料
将材料加热到其蒸发点。
这可以通过电阻加热或使用电子束来实现。
电阻加热适用于容易通过传导或对流加热的材料。
电子束加热用于需要较高温度或对氧化敏感的材料。
3.蒸发和沉积
一旦加热，材料就会蒸发。
其分子穿过真空室。
真空至关重要，因为它可以最大限度地减少污染，并确保基底上的沉积物清洁。
蒸发后的材料沉积到基底上，形成薄膜。
4.控制和精度
为确保薄膜的均匀性和所需特性，基底可在沉积过程中旋转或操纵。
这一点在制作望远镜镜面或太阳能电池板导电层等应用中尤为重要。
操纵基底有助于获得均匀的厚度和所需的光学或电学特性。
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