离子电镀 PVD 又称离子气相沉积，是一种通过原子大小的能量粒子轰击基底材料，以薄膜形式沉积原子的工艺。
这种工艺可用于沉积多种材料，在 X 射线管制造、带钢涂层和航空发动机生产等行业中有着广泛的应用。
什么是离子镀 PVD 工艺？(6 个关键步骤详解）
1.放置目标材料
将用于制作涂层的目标材料放入真空室。
2.抽真空
对真空室进行抽真空，以创造一个高真空环境。这一步骤可确保没有可能干扰沉积过程的污染物或气体存在。
3.电离
将含有涂层材料原子的气体引入真空室。然后对气体进行电离，即给原子带上电荷。
4.离子轰击
电离后的原子被加速并射向基底材料。离子轰击基质，使目标材料汽化。这种轰击还有助于在沉积前清洁基底表面。
5.薄膜形成
气化的材料在基底上凝结，形成薄膜。随着更多原子沉积到基底上，薄膜逐层增长。
6.净化
沉积完成后，用惰性气体吹扫腔室，以除去任何残留蒸汽，确保生成的涂层纯净无杂质。
与其他 PVD 工艺相比，离子镀 PVD 具有多项优势。它能以更低的温度和更高的速率沉积材料，因此适用于易碎基材，并能加快生产速度。
此外，离子镀还能沉积热蒸发或溅射沉积方法难以蒸发的材料。
不过，需要注意的是，与其他 PVD 工艺使用的腔室相比，离子镀腔室往往更加昂贵。
总之，离子镀 PVD 是一种多功能、高效的薄膜沉积工艺，具有高度的一致性。它被广泛应用于各行各业，以提高材料的性能并延长其使用寿命。
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