PACVD（等离子体辅助化学气相沉积）涂层工艺是指在相对较低的温度下，通过等离子体在气相中引发的化学反应，在基材上沉积薄膜。
这种方法结合了 PVD（物理气相沉积）和 CVD（化学气相沉积）工艺的优点。
5 个关键步骤说明
1.制备
在镀膜工艺开始之前，基底（可以是金属、陶瓷或其他材料）要彻底清洁并置于真空室中。
这种环境至关重要，因为它可以防止污染，并能控制涂层材料的沉积。
2.等离子活化
在 PACVD 工艺中，等离子体用于活化前驱体气体。
这种活化包括通过施加电场将气体分子解离成活性物质。
等离子体可通过各种方法产生，如射频或微波激励。
与传统的化学气相沉积法相比，等离子体的使用可使沉积在较低的温度下进行，因此适用于对温度敏感的基底。
3.沉积
一旦气体被激活，它们就会发生化学反应，在基底上形成所需的薄膜。
这种反应通常会沉积一层厚度仅为几纳米到几微米的薄膜。
等离子体的性质和前驱气体的选择决定了沉积薄膜的特性，如硬度、耐磨性和对基底的附着力。
4.质量控制
涂层涂敷完成后，要经过严格的检查。
这包括测量涂层厚度、测试其硬度、评估其耐久性和与基体的附着力。
这些测试可确保涂层符合预期应用的规格要求。
5.表面处理
根据不同的应用，涂层基材可能需要经过额外的表面处理工艺。
这可能包括抛光以改善表面光洁度，或进行特定处理以提高涂层性能。
例如，对于 DLC（类金刚石碳）涂层，可能会使用额外的处理来优化其摩擦学特性，使其更适合发动机部件或切削工具等应用。
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