PACVD（等离子体辅助化学气相沉积）涂层工艺是指在相对较低的温度下，通过等离子体在气相中引发的化学反应，在基材上沉积薄膜。这种方法结合了 PVD（物理气相沉积）和 CVD（化学气相沉积）工艺的优点。
工艺概述：
- 制备:制备基底并将其置于真空室中。
- 等离子活化:产生等离子体以激活气相，从而引发化学反应。
- 沉积:活化气体发生反应，在基底上形成薄膜。
- 质量控制:对涂层进行检查，确保其符合规格要求。
- 表面处理:可采用抛光或磨光等附加工艺来提高涂层的性能或外观。
详细说明：
-
制备:在涂层工艺开始之前，基底（可以是金属、陶瓷或其他材料）要彻底清洁并置于真空室中。这种环境至关重要，因为它可以防止污染，并能控制涂层材料的沉积。
-
等离子活化:在 PACVD 工艺中，等离子体用于活化前驱体气体。这种活化包括通过施加电场将气体分子解离成活性物质。等离子体可通过各种方法产生，如射频（RF）或微波激励。与传统的 CVD 相比，使用等离子体可以在较低的温度下进行沉积，因此适用于对温度敏感的基底。
-
沉积:一旦气体被激活，它们就会发生化学反应，在基底上形成所需的薄膜。这种反应通常会沉积一层厚度仅为几纳米到几微米的薄膜。等离子体的性质和前驱气体的选择决定了沉积薄膜的特性，如硬度、耐磨性和对基底的附着力。
-
质量控制:涂层涂敷完成后，要经过严格的检查。这包括测量涂层的厚度、测试其硬度、评估其耐久性和与基体的附着力。这些测试可确保涂层符合预期应用的规格要求。
-
表面处理:根据不同的应用，涂层基材可能需要经过额外的表面处理工艺。这包括抛光以改善表面光洁度，或进行特殊处理以提高涂层性能。例如，在 DLC（类金刚石碳）涂层的情况下，可能会使用附加处理来优化其摩擦学特性，使其更适合发动机部件或切削工具等应用。
更正和审查：
所提供的文本最初混淆了 PVD 和 PACVD 工艺，特别是在描述 "涂层 "步骤时，将其描述为 PVD 工艺。在 PACVD 工艺中，沉积是化学沉积而不是物理沉积，而且由于使用等离子体，沉积温度较低。文中对 PVD 工艺的描述是准确的，但不应归结为 PACVD。PACVD 的正确工艺描述是使用等离子体引发气相中的化学反应，从而在低温下在基底上沉积薄膜。
