PVD（物理气相沉积）蒸发过程包括在真空环境中通过一系列步骤在基底上沉积一层材料薄膜。
3 个关键步骤说明
1.蒸发
通过物理方法将待沉积材料转化为蒸汽。
这可以通过热蒸发、阴极电弧蒸发或电子束蒸发等各种方法实现。
在热蒸发过程中，材料在高真空室中被加热到熔点，形成蒸汽云。
阴极电弧蒸发使用大功率电弧使涂层材料电离。
电子束蒸发则使用电子束加热和汽化材料。
2.运输
然后，蒸气会穿过一个低压区域，从源头传输到基底。
这一步骤在真空室中进行，确保与周围环境的相互作用降到最低。
这有助于保持蒸气的纯度和完整性。
3.冷凝
蒸汽在基底上凝结形成薄膜。
这包括蒸汽颗粒沉降到基底表面并与之结合。
基底可由石英、玻璃或硅等各种材料制成，基底的位置应确保蒸汽流能有效地将材料沉积到其表面。
PVD 蒸发工艺可产生高质量的薄膜，具有出色的附着力和性能特征。
这种方法能生产出高纯度、高效率的涂层，因此特别受到青睐。
它的应用范围非常广泛，包括半导体制造和用于美观或功能性目的的表面涂层。
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