物理气相沉积（PVD）是一种用于在各种材料上生成薄膜的工艺。
然而，PVD 的速率并不是一个固定的数字，而是会有很大的变化。
什么是物理气相沉积速率？(需要考虑的 4 个关键因素）
1.物理气相沉积过程
物理气相沉积涉及沉积厚度通常为 1 到 10 微米 (µm) 的薄膜。
2.影响 PVD 速度的因素
沉积速度取决于几个因素：
- 使用的特定 PVD 技术。
- 沉积的材料。
- 使用的设备。
- 沉积室的条件，如温度、压力和反应气体的存在。
3.计算 PVD 率
要确定 PVD 率，需要考虑达到所需薄膜厚度所需的时间。
例如，如果 PVD 过程以每小时 1µm 的速度沉积薄膜，那么达到 5µm 厚度大约需要 5 小时。
4.实验测定
如果没有特定 PVD 技术和材料沉积速率的具体数据，就无法提供精确的速率。
实际速率需要通过实验确定，或由特定应用的 PVD 设备制造商提供。
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