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所提供的参考文献中没有明确说明物理气相沉积（PVD）的速率，但可以从工艺描述和所生产涂层的典型厚度中推断出来。PVD 是一种涉及薄膜沉积的工艺，厚度通常在 1 到 10µm（微米）之间。沉积速率取决于所使用的特定 PVD 技术、沉积材料、设备和沉积室的条件（如温度、压力和反应气体的存在）。
要确定 PVD 的速率，通常需要考虑达到所需薄膜厚度所需的时间。例如，如果 PVD 过程以每小时 1 微米的速度沉积薄膜，而所需厚度为 5 微米，那么该过程大约需要 5 小时才能完成。但是，如果没有特定 PVD 技术和材料沉积速率的具体数据，就无法提供精确的速率。
总之，PVD 的速率是一个变量，取决于多个因素，通常以单位时间内沉积的薄膜厚度来衡量。实际速率需要通过实验确定，或由 PVD 设备制造商针对特定应用提供。
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