纳米粒子合成的气相沉积法涉及使用物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）技术在原子尺度的固体表面沉积薄层材料。这些方法在纳米技术中至关重要，可用于生产均匀的涂层和纳米结构，并精确控制其特性。
物理气相沉积（PVD）：
- 物理气相沉积是一种待沉积材料以固态形式开始并在真空条件下气化的过程。该工艺包括几个关键步骤：蒸发：
- 将源材料（通常为粉末状）加热到极高的温度，直到其升华，从固体直接变成蒸汽。运输：
- 气化后的材料通过真空室传送到基底上。反应：
- 在某些情况下，沉积前的气相可能会发生反应。沉积：
气相在基底上凝结，形成材料薄膜或层。
溅射镀膜和脉冲激光沉积 (PLD) 等 PVD 技术用于实现高纯度和均匀的涂层，这对纳米技术的应用（包括纳米线和纳米球的生长）至关重要。化学气相沉积（CVD）：
化学气相沉积涉及使用气态化学前驱体。该过程在反应室中进行，气体在反应室中反应形成固体材料，并沉积到基底上。CVD 特别适用于制造复杂的结构，并可通过控制来生产具有特定性能的薄膜。PVD 和 CVD 都被认为是自下而上的沉积方法，即在基底上逐个原子地形成薄膜。这些方法可以精确控制薄膜的厚度和均匀性，这对合成纳米粒子和纳米结构至关重要。
应用和优势：
