合成单壁碳纳米管（SWCNTs）最常用的方法是化学气相沉积法（CVD）。
化学气相沉积是最发达、最常用的碳纳米管（CNTs）商业化生产技术。
它在控制纳米管的直径、长度和形态方面具有更大的灵活性。
合成单壁碳纳米管的 5 个要点
1.化学气相沉积（CVD）是主要方法
化学气相沉积法是指在催化剂作用下对碳氢化合物或含碳气体前驱体进行热分解。
该工艺需要气相重排和催化剂沉积，以实现较高的成本效益和有限的环境影响。
2.用于大规模合成的催化 CVD（CCVD）
催化 CVD（CCVD）因其结构可控性和成本效益，在大规模合成纯 CNT 方面具有特别优势。
3.CVD 的关键操作参数
CVD 过程中操作参数的选择对于成功合成碳纳米管至关重要。
温度、碳源浓度和停留时间等因素在决定纳米管的生产率和质量方面起着重要作用。
优化这些参数对于获得理想的性能、降低能耗和材料需求至关重要。
4.与其他合成技术的比较
虽然 CVD 是合成 SWCNT 的主要方法，但过去也使用过激光烧蚀和电弧放电等其他技术。
不过，CVD 已被证明是最有效和最广泛采用的商业生产方法。
5.CVD 在 SWCNT 之外的多功能性
值得注意的是，CVD 并不局限于合成 SWCNT，还可用于生产其他碳纳米材料，如富勒烯、碳纳米纤维 (CNF)、石墨烯、碳化物衍生碳 (CDC)、碳纳米离子 (CNO) 和 MXenes。
不过，就 SWCNT 合成而言，CVD 因其多功能性和可扩展性而成为首选方法。
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