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溅射法更适用于合金沉积，因为它能保持沉积薄膜的成分与原材料相似，具有出色的阶跃覆盖能力，并能沉积出附着力强的均匀薄膜。
保持与原材料相似的成分：
溅射可确保沉积薄膜的浓度与原材料的浓度接近。这一点对于合金沉积尤为重要，因为它能确保在薄膜中保留合金的特性。与其他方法不同的是，其他方法的沉积产量可能取决于物质的原子量，从而导致合金成分以不同的速度沉积，并可能改变沉积薄膜的浓度，而溅射法可以补偿这些差异。作为一种表面现象，溅射过程会使表面富含其余成分的原子，从而有效平衡溅射速率的差异。这就形成了与原始合金靶材浓度相似的薄膜。出色的阶跃覆盖率：
溅射可提供出色的阶跃覆盖，这对于在具有复杂形貌的基底上沉积薄膜至关重要。溅射过程中的高压会导致分子的平均自由路径变短，从而引起溅射原子在空气中的散射。这种散射增加了工艺的各向异性，使原子能更均匀地沉积在基底上，包括台阶和其他不规则处。这对合金沉积尤其有利，因为它能确保合金薄膜在基底上均匀沉积，保持合金成分和特性的完整性。
薄膜均匀，附着力强：
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