物理气相沉积（PVD）是一种用于制造薄膜和涂层的工艺。它涉及将材料从凝结相转变为气相，然后重新凝结到基底上。该工艺采用多种技术，包括溅射、蒸发和在惰性气氛中进行热处理。沉积材料的物理特性取决于前驱体材料的蒸汽压。
5 个关键步骤说明
1.材料汽化
通过物理方法将待沉积材料转化为蒸汽。这可以通过溅射或热蒸发来实现。
溅射
在这种方法中，原子通过动量交换从固体或液体源释放出来。高能粒子（通常是离子）轰击源材料，使原子喷射出来，形成蒸汽。
热蒸发
这包括在高真空室中加热固体材料，直至其熔化和蒸发。真空可确保即使相对较低的蒸气压也足以在沉积腔内产生蒸气云。
2.蒸汽传输
一旦材料进入气相，就必须将其传输到基底。这需要在低压环境中进行，这样可以最大限度地减少与其他颗粒的碰撞，并确保蒸气可以直接到达基底，而不会造成重大损失或改变。
3.凝结
当蒸汽到达基底时，会冷却并冷凝，形成一层薄膜。薄膜的厚度和均匀性取决于汽化率、源和基底之间的距离以及基底的温度等因素。
更正和回顾
所提供的文本准确描述了 PVD 过程，包括溅射和热蒸发方法。不过，需要注意的是，虽然 PVD 被广泛应用于电子、光学和冶金等行业，但具体的技术和条件会根据所需的薄膜特性而有很大不同。例如，选择溅射还是热蒸发取决于材料特性和应用要求。此外，文中还可提及基底温度的作用及其对沉积薄膜质量的影响。
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