射频 (RF) 功率的调整是确定薄膜沉积是由化学反应还是物理轰击驱动的主要控制机制。通过将频率调至临界 4 MHz 阈值之上或之下，您可以决定等离子体中离子的迁移率，这直接改变了薄膜的密度、应力状态和化学计量比。
核心机制是离子响应时间。高频率阻止离子跟随振荡场，导致薄膜更软、拉伸性更强；而低频率则使高能离子轰击成为可能，从而产生致密、压缩性强且富氮的微观结构。
频率相互作用的物理学
高频 (HF) 模式
在高于 4 MHz 的频率下，振荡电场的变化方向太快，以至于重离子无法跟随。只有质量轻得多的电子才能跟踪场的振荡。
由于离子相对静止，薄膜的生长主要由扩散到表面的中性粒子（自由基）驱动。这导致沉积过程主要由化学动力学而非物理撞击决定。
低频 (LF) 模式
在低于 4 MHz 的频率下，振荡足够慢，离子可以物理上跟随变化的电场。这使得离子能够获得动能并撞击基板表面。
这导致了强烈的离子轰击效应。离子就像微小的锤子，在生长过程中物理上将沉积的材料进行堆积并改变表面化学性质。
对微观结构和成分的影响
控制薄膜密度
低频沉积中存在的离子轰击显著促进了致密化。离子的物理撞击会消除空隙并形成紧密堆积的原子结构。
相反，高频沉积缺乏这种物理“滚压”效应。因此，HF 薄膜比 LF 薄膜更易多孔且密度较低。
定义应力状态
频率是控制内应力的决定性因素。高频工艺通常会产生具有拉伸应力的薄膜，这是由中性前体的特定键合构型引起的。
低频工艺会诱导压缩应力。高能离子迫使原子进入比它们自然状态下更紧密的构型，在薄膜晶格内产生内部压力。
改变化学计量比
能量来源也改变了化学平衡。LF 模式中的物理轰击增强了氮的掺入，导致富氮薄膜。
在缺乏这种轰击（HF 模式）的情况下，薄膜往往是富硅的。硅氮比的这种变化从根本上改变了材料的化学键合状态和潜在的光学性质。
理解权衡
应力与密度的权衡
虽然低频沉积提供了优异的密度和阻隔性能，但由此产生的压缩应力可能是一个缺点。如果应力过高，可能会导致薄膜分层或基板翘曲。
工艺复杂性
需要注意的是，虽然频率是影响微观结构的主要因素，但它并非孤立起作用。
根据更广泛的工艺数据表明，气体流量和温度等参数也会影响沉积速率和光学性能。然而，频率仍然是区分离子辅助（物理）和自由基驱动（化学）生长模式的独特“旋钮”。
为您的目标做出正确选择
为了优化您的氮化硅薄膜，您必须选择与您的特定结构要求相符的频率：
- 如果您的主要关注点是薄膜密度和耐用性：使用低频（< 4 MHz），利用离子轰击获得更致密、富氮的结构。
- 如果您的主要关注点是控制机械应力：使用高频（> 4 MHz）以获得拉伸应力，并避免与离子轰击相关的强压缩力。
- 如果您的主要关注点是富硅成分：在高频下操作，以有利于中性粒子沉积并减少氮的掺入。
通过操纵射频频率，您可以有效地调节等离子体的动能，从而从原子层面优化薄膜的微观结构。
总结表：
| 频率模式 | 范围 | 主导机制 | 薄膜密度 | 内应力 | 化学成分 |
|---|---|---|---|---|---|
| 高频 (HF) | > 4 MHz | 化学动力学（自由基） | 较低 / 多孔 | 拉伸 | 富硅 |
| 低频 (LF) | < 4 MHz | 物理离子轰击 | 较高 / 致密 | 压缩 | 富氮 |
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参考文献
- Catheline Cazako, R. Cauro. Hypothetic impact of chemical bonding on the moisture resistance of amorphous Si<sub>x</sub>N<sub>y</sub>H<sub>z</sub> by plasma-enhanced chemical vapor deposition. DOI: 10.1051/metal/2018072
本文还参考了以下技术资料 Kintek Solution 知识库 .
