与传统的热蒸发技术相比，离子束辅助蒸发具有多种优势。这种方法通常使用电子束，为各种工业应用提供了更优越的选择。
与热蒸发技术相比，离子束辅助蒸发有哪些 8 大优势？
1.更高的最高蒸发温度
离子束辅助蒸发通常使用电子束，与热蒸发相比，它可以处理熔点更高的材料。
2.增强薄膜特性
将离子辅助源与电子束蒸发结合使用，可显著提高沉积薄膜的性能。
3.材料利用率更高
电子束蒸发可直接加热目标材料，从而提高材料利用效率。
4.更好的阶跃覆盖
与溅射或化学气相沉积（CVD）等其他沉积技术相比，离子束辅助蒸发可提供更好的阶跃覆盖率。
5.与多种材料兼容
该技术与金属、陶瓷和氧化物等多种材料兼容。
6.更高的沉积速率
与热蒸发相比，离子束辅助蒸发通常具有更高的沉积率。
7.杂质含量更低
由于加热是直接进行的，不涉及坩埚加热，因此坩埚材料污染的风险较低。
8.可控性和可重复性
离子束辅助蒸发过程具有高度可控性和可重复性。
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