化学气相沉积（CVD）是一种在基底上生成薄膜的复杂工艺。
CVD 的 6 个步骤是什么？
1.引入前体化学品
CVD 工艺的第一步是将前驱化学品引入 CVD 反应器。
这些前驱化学品是反应气体，它们将发生化学反应，在基底上形成所需的薄膜。
2.前驱体分子的运输
前驱体分子进入反应器后，需要被输送到基底表面。
这种传输通常通过流体传输和扩散相结合的方式实现。
3.基底表面吸附
前驱体分子随后会吸附到基底表面。
吸附是指这些分子附着在基底表面。
4.化学反应
吸附的前驱体分子与基底材料发生化学反应，形成所需的薄膜。
这些反应可能发生在基底表面或非常靠近基底的地方。
5.副产品的解吸
随着化学反应的发生，会产生副产物分子。
这些副产物分子需要从基底表面解吸，以便为更多进入的前体分子腾出空间。
解吸指的就是将这些分子从表面释放出来。
6.副产物的排出
反应过程中产生的气态副产物会被排出反应室。
这是保持沉积过程清洁环境所必需的。
值得注意的是，CVD 过程可在不同条件下进行，如常压 CVD、低压 CVD 和超高真空 CVD。
此外，CVD 还有多种分类和变体，如等离子体增强型 CVD、激光辅助型 CVD 和光辅助型 CVD，它们涉及激活反应气体的不同能量来源。
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