化学气相沉积（CVD）是一种复杂的工艺，用于在各种基底上生成薄膜。
化学气相沉积反应的 5 个关键步骤
1) 引入前驱体化学品
将前驱化学品送入 CVD 反应器。
这些化学品是起始材料，通过反应形成所需的薄膜。
2) 前驱体分子的运输
进入反应器后，前驱体分子需要被输送到基底表面。
这通常是通过流体传输和扩散相结合来实现的。
3) 基质表面吸附
到达基底表面的前驱体分子必须进行吸附。
吸附是指这些分子附着在基底表面。
这一步骤对于后续反应的发生至关重要。
4) 化学反应
吸附后，前驱体分子会与基底表面发生反应，形成所需的薄膜。
这些反应可以是均相气相反应，也可以是在基底受热表面上/附近发生的异相反应。
5) 副产品解吸
在化学反应过程中会产生副产物分子。
这些副产物需要从基底表面解吸，以便为更多进入的前体分子腾出空间。
解吸是指将这些分子释放到气相中。
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