物理气相沉积（PVD）是各行各业的一项重要技术，它提供了一系列涂层方法来提高材料性能。
PVD 有哪些变体？(3 种关键方法详解）
1.热蒸发
热蒸发包括加热要沉积的材料直至其汽化。
然后，蒸气通过真空或低压环境到达基底，在那里凝结成薄膜。
热蒸发可进一步分为不同的技术，如电子枪蒸发或阴极电弧蒸发。
2.溅射沉积
在溅射沉积中，离子被加速射向目标（待沉积材料）。
这将导致原子从目标喷射（溅射）出来，然后沉积到基底上。
使用不同类型的溅射技术，如直流（DC）溅射、射频（RF）溅射或磁控溅射，可以增强溅射效果。
3.电弧气相沉积
电弧气相沉积使用大功率电弧使阴极（目标材料）上的材料气化。
电弧产生的等离子体包含气化的材料，然后沉积到基底上。
电弧气相沉积对于沉积高附着力和高密度涂层尤为有效。
每种 PVD 方法都有不同的用途，可根据所需的涂层特性（如附着力、硬度、耐磨性和耐腐蚀性）对特定应用进行优化。
此外，还有其他一些不太常见的 PVD 方法，如分子束外延、离子沉积、原子激光沉积和激光烧蚀，这些方法可为特殊应用提供独特的功能。
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