PVD 机器或物理气相沉积机是一种通过物理气化过程将材料薄膜沉积到基底上的设备。该过程包括加热目标材料直至其汽化，然后将汽化物沉积到基底表面。生成的薄膜通常非常薄，厚度从几纳米到几微米不等，可带来各种好处，如提高耐磨性、增加硬度和增强外观美感。PVD 机器广泛应用于各行各业，包括航空航天、汽车和医疗行业。
PVD 工艺说明：
物理气相沉积（PVD）是一种薄膜沉积工艺，材料的原子或分子在高真空环境中从固体源气化，然后凝结在基底上。这种工艺可用于在各种基底上沉积金属、合金、金属氧化物和某些复合材料薄膜。PVD 能够沉积厚度从几埃到几千埃的薄膜，典型沉积速率为 1-100 A/s。PVD 工艺的主要优势之一是几乎可以使用无污染沉积工艺沉积任何无机材料。薄膜可以是单一材料、分级成分层或多层涂层。
- PVD 设备的类型：阴极电弧 PVD 设备：
- 在此过程中，电弧会在源材料（阴极）和带负电的基底之间产生，导致源材料汽化。气化后的材料沉积到基底上。脉冲激光沉积 (PLD) PVD 机器：
PLD 机器使用高能激光烧蚀源材料表面，产生等离子体羽流。然后等离子体羽流沉积到基底上。PVD 涂层设备的应用：
PVD 涂层因其令人印象深刻的特性而广泛应用于各行各业。常见的应用包括提高汽车部件（如发动机部件、装饰件和车轮）的耐用性和外观。此外，PVD 涂层还可用于航空航天和医疗行业，以提高各种部件的性能和使用寿命。
总结：
