化学气相沉积（CVD）是一种用途广泛的合成薄膜和纳米粒子的方法，尤其是在纳米技术领域。该工艺是指气态前驱体在加热表面上发生反应或分解，形成固态产物。CVD 因其生产高纯度材料的能力、可扩展性以及在电子、医药和空间技术等各行各业的适用性而备受青睐。
工艺概述：
在 CVD 中，通过引入反应性气体混合物（通常包括挥发性化合物和载气），在基底上镀上一层薄薄的材料。气体在气相或加热的基底上发生高温反应，沉积出所需的材料。这种方法可以进行调整，以控制沉积材料的成分和结构，因此适用于多种应用。变体和应用：
CVD 有多种变体，如原子层沉积 (ALD)、等离子体增强 CVD 和光辅助 CVD，每种变体都是根据特定需求和材料量身定制的。这些技术用于生产各种材料，包括粉末、纤维和各种薄膜。例如，CVD 在合成碳基纳米材料（如碳纳米管和石墨烯）方面发挥着重要作用，而碳纳米管和石墨烯在现代电子学和材料科学中至关重要。
挑战和考虑因素：
虽然 CVD 具有许多优势，但它也面临着一些挑战，例如热约束，这可能会耗费大量能源，并可能限制可使用的基底类型，尤其是熔点较低的基底。尽管存在这些挑战，但 CVD 能够精确控制沉积过程，因此是开发创新材料和结构的重要工具。
