技术团队 · Kintek Solution

蒸气沉积是将蒸发的材料在表面上形成固体薄膜的过程。

这一过程可以通过化学或物理方法完成。

它在各种工业应用中至关重要，尤其是在电子、光学和医疗设备的薄膜形成中。

什么是气相沉积？5 大要点解析

1.化学气相沉积（CVD）

在 CVD 中，固体薄膜的沉积是通过气相中的化学反应实现的。

该过程通常包括三个主要步骤：

1.1 蒸发挥发性化合物

首先蒸发要沉积的物质。

这通常是通过将前驱体材料加热到高温，使其蒸发到气相中来实现的。

1.2 热分解或化学反应

蒸汽经过热分解变成原子和分子，或与基底表面的其他蒸汽或气体发生反应。

这一步至关重要，因为它启动了薄膜形成所需的化学变化。

1.3 非挥发性反应产物的沉积

化学反应产物现在呈固态，沉积在基底上形成薄膜。

这种沉积受温度和压力等因素的影响，在 CVD 过程中，温度和压力通常较高。

2.物理气相沉积（PVD）

物理气相沉积是指在基底上将材料从固态转移到气态，再从气态转移回固态。

该工艺包括

2.1 固态材料的气化将待沉积材料加热至汽化。这可以通过各种方法实现，如溅射、蒸发或电子束加热。