知识 为什么要在 SEM 中使用溅射镀膜机?
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1周前

为什么要在 SEM 中使用溅射镀膜机?

溅射涂层用于扫描电子显微镜,通过改善样品的导电性、减少光束损伤和提高图像质量来增强显微镜的成像能力。这对于不导电或导电性差的样品尤为重要。

答案摘要:

溅射涂层对 SEM 至关重要,它可以提高样品的导电性,这对获得高质量图像至关重要。它有助于减少光束损伤和样品充电,并增强二次电子的发射,从而提高整体图像的分辨率和质量。

  1. 详细说明:

    • 提高导电性:
  2. 在扫描电镜中使用溅射涂层的主要原因是为了提高样品的导电性。许多样品,尤其是生物和非金属材料,都是不良导体。在扫描电子显微镜中,电子束与样品相互作用,如果样品不导电,就会积累电荷,导致图像失真,甚至损坏样品。使用金或铂等金属进行溅射镀膜可提供导电层,防止电荷积聚,使电子束与样品有效互动。

    • 减少光束损伤:
  3. 扫描电子显微镜中的高能电子束可能会损坏敏感样品,尤其是有机材料。薄金属涂层可以起到缓冲作用,吸收电子束的部分能量,减少对样品的直接影响。这有助于保持样品的完整性,并在多次扫描中获得更清晰的图像。

    • 增强二次电子发射:
  4. 二次电子是扫描电子显微镜成像的关键,因为它们提供了图像的对比度。溅射涂层通过提供一个导电表面来促进二次电子的发射过程,从而增强了二次电子的发射。这将提高信噪比,这对获得高分辨率图像至关重要。

    • 提高边缘分辨率:
  5. 溅射镀膜还能减少电子束对样品的穿透,这对提高图像的边缘分辨率尤为有利。这对于详细分析样品表面和结构至关重要。

    • 保护光束敏感样品:

对于非常敏感的样品,金属涂层不仅能提高导电性,还能提供一个保护层,使样品免受电子束的直接冲击,从而防止损坏。结论

相关产品

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

根据您的独特需求,为您提供经济实惠的实验室用钴(Co)材料。我们的产品范围包括溅射靶材、粉末、箔等。如需定制解决方案,请立即联系我们!

高纯硒(Se)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯硒(Se)溅射靶材/粉/丝/块/粒

您正在寻找经济实惠的实验室用硒(Se)材料吗?我们专业生产和定制各种纯度、形状和尺寸的材料,以满足您的独特要求。请浏览我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。

高纯度钐(Sm)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯度钐(Sm)溅射靶材/粉/丝/块/粒

正在为您的实验室寻找钐 (Sm) 材料?我们以合理的价格提供各种尺寸和规格的溅射靶材、涂层材料、粉末等。根据您的独特需求量身定制。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

硫化锌 (ZnS) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硫化锌 (ZnS) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

为您的实验室需求提供经济实惠的硫化锌 (ZnS) 材料。我们生产和定制不同纯度、形状和尺寸的 ZnS 材料。有多种溅射靶材、涂层材料、粉末等可供选择。

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

Looking for affordable Cobalt Silicide materials for your laboratory research? We offer tailored solutions of different purities, shapes, and sizes, including sputtering targets, coating materials, and more. Explore our range now!

碲化钴 (CoTe) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

碲化钴 (CoTe) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您提供实验室所需的高质量碲化钴材料。我们提供定制的形状、尺寸和纯度,包括溅射靶材、涂层、粉末等。

高纯度银(Ag)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯度银(Ag)溅射靶材/粉/丝/块/粒

您正在为您的实验室需求寻找经济实惠的银(Ag)材料吗?我们的专家擅长生产不同纯度、形状和尺寸的产品,以满足您的独特需求。

硒化锌 (ZnSe) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硒化锌 (ZnSe) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找硒化锌(ZnSe)材料?我们实惠的价格和专业的定制选项使我们成为您的最佳选择。立即了解我们的各种规格和尺寸!

硫化锡 (SnS2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硫化锡 (SnS2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室找到高质量的硫化锡 (SnS2) 材料。我们的专家生产和定制材料,以满足您的特定需求。请查看我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

高纯锡(Sn)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯锡(Sn)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在寻找用于实验室的高质量锡(Sn)材料吗?我们的专家以合理的价格提供可定制的锡(Sn)材料。立即查看我们的各种规格和尺寸!

高纯锗(Ge)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯锗(Ge)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室需求提供高品质的金材料。我们定制的金材料有各种形状、尺寸和纯度,可满足您的独特要求。了解我们的溅射靶材、涂层材料、箔、粉末等产品系列。

火花等离子烧结炉 SPS 炉

火花等离子烧结炉 SPS 炉

了解火花等离子烧结炉在快速、低温材料制备方面的优势。加热均匀、成本低且环保。

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

高温脱脂和预烧结炉

高温脱脂和预烧结炉

KT-MD 高温脱脂和预烧结炉,适用于各种成型工艺的陶瓷材料。是 MLCC 和 NFC 等电子元件的理想选择。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

使用我们的真空熔融纺丝系统,轻松开发可蜕变材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购,获得有效成果。

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,用于精确反应。立即订购!


留下您的留言