热蒸发是一种在高真空环境中将材料沉积到基底上制备薄膜的方法。
热蒸发制备薄膜的 4 个关键步骤
1.加热目标材料
将待沉积材料（目标材料）加热至高温。
通常采用电阻加热或电子束加热。
这种加热会使材料升华或沸腾，释放出蒸汽。
2.蒸汽输送
汽化后的材料通过真空室进行传输。
真空环境至关重要，因为它可以最大限度地减少蒸气与其他颗粒碰撞的机会。
这确保了直接到达基底的路径。
3.在基底上凝结
蒸汽到达基底后凝结，形成一层薄膜。
薄膜的厚度和均匀性取决于蒸发率、蒸发源和基底之间的距离以及蒸发过程的持续时间等因素。
4.薄膜生长和成核
重复沉积循环可促进薄膜的生长和成核。
这对于获得理想的薄膜特性和厚度非常重要。
热蒸发尤其适用于在太阳能电池、薄膜晶体管、半导体晶片和碳基有机发光二极管中形成金属结合层。
根据应用的具体要求，它可以沉积单一材料或不同材料的共沉积层。
这种方法因其简便性和可制备的高质量薄膜而备受青睐，成为实验室和工业环境中制备薄膜的主要方法。
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