更新于 3周前
物理气相沉积（PVD）是一种用途广泛的技术，在各行各业都有广泛的应用。
物理气相沉积通常用于制造半导体器件。
这些薄膜可用于绝缘、扩散屏障和金属接触等用途。
PVD 用于在光学元件上沉积具有特定光学特性的材料薄膜。
它们可用于防反射涂层、镜面涂层和波长选择滤波器等应用中。
PVD 用于在钻头、立铣刀和刀片等切削工具上涂覆硬质涂层。
从而延长了刀具寿命，提高了切削性能。
装饰展示
这些薄膜可产生镜面效果，通常用于智能手机、平板电脑和汽车显示器等产品。太阳能电池PVD 可用于制造太阳能电池。它用于在太阳能电池表面沉积硅等材料的薄膜。这些薄膜通过改善光吸收和电子传输来提高太阳能电池的效率。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备，这是一种微波等离子体化学气相沉积方法，用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。
介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。
用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备
使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。
它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。
用于热管理的 CVD 金刚石：导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石，是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
CVD 掺硼金刚石：一种多功能材料，可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能，应用于电子、光学、传感和量子技术领域。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
CVD 金刚石切削刀具：卓越的耐磨性、低摩擦、高导热性，适用于有色金属材料、陶瓷和复合材料加工
体验 CVD 金刚石修整器坯料的无与伦比的性能：高导热性、优异的耐磨性和方向独立性。
915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。
KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能，用于精确反应。立即订购！
