物理气相沉积(PVD)是一种用途广泛的技术,在各行各业都有广泛的应用。
物理气相沉积 (PVD) 法的 6 个主要应用领域
半导体器件
物理气相沉积通常用于制造半导体器件。
它用于将各种材料的薄膜沉积到硅晶片等半导体基底上。
这些薄膜可用于绝缘、扩散屏障和金属接触等用途。
光学涂层和滤光片
PVD 用于在光学元件上沉积具有特定光学特性的材料薄膜。
这些涂层可提高光学表面的反射率、透射率和耐用性。
它们可用于防反射涂层、镜面涂层和波长选择滤波器等应用中。
涂层切割工具
PVD 用于在钻头、立铣刀和刀片等切削工具上涂覆硬质涂层。
这些涂层可提高切削工具的耐磨性和硬度。
从而延长了刀具寿命,提高了切削性能。
装饰展示
PVD 用于在玻璃或塑料等表面沉积高反射薄膜,以达到装饰目的。
这些薄膜可产生镜面效果,通常用于智能手机、平板电脑和汽车显示器等产品。太阳能电池PVD 可用于制造太阳能电池。它用于在太阳能电池表面沉积硅等材料的薄膜。这些薄膜通过改善光吸收和电子传输来提高太阳能电池的效率。