PVD（物理气相沉积）镀膜又称薄膜镀膜，是一种在真空中气化固体材料并将其沉积到零件表面的工艺。它是在低压（通常为 10-3 到 10-9 托）的真空室中进行的。待镀膜的部件放置在等离子环境中的高纯度靶源前。然后，目标材料被气化并沉积到部件表面，形成一层薄而均匀的涂层。
PVD 涂层工艺包括三个关键步骤。首先，加热目标材料直至其汽化。这可以通过溅射或蒸发等各种方法实现。其次，将汽化的材料沉积到部件表面。这种沉积是在真空中进行的，可确保涂层不含杂质和污染物。最后，沉积的材料凝结，在部件表面形成一层薄膜。
PVD 涂层常用于各行各业的不同应用。它以出色的耐磨性和耐腐蚀性著称，适用于提高零件的性能和耐用性。PVD 涂层还能增强外观美感，因此在化妆品应用中很受欢迎。这种涂层可应用于多种材料，包括金属、合金、陶瓷和合成物。
PVD 涂层的优点包括提高耐磨性、增加硬度和增强产品特性。薄而均匀的涂层提供了一道防止磨损和腐蚀的保护屏障，延长了部件的使用寿命。真空沉积工艺可确保涂层持久耐用且不含杂质，从而获得高质量和持久的表面效果。
总之，PVD 真空镀膜是一种在真空室中将固体材料气化并沉积到零件表面的工艺。它用于提高部件的性能、耐用性和美观度。涂层可提高耐磨性、增加硬度，并且环保。
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