说到沉积薄膜，有两种常见的方法：热蒸发和电子束蒸发。
5 个考虑要点
1.蒸发方法
热蒸发使用电流加热装有材料的坩埚。
这将导致材料熔化和蒸发。
而电子束蒸发则是利用一束高能电子直接加热材料。
2.对材料的适用性
热蒸发适用于熔点较低的材料。
热蒸发产生的薄膜涂层密度较低，杂质风险较高。
电子束蒸发对高熔点材料特别有效。
3.沉积速率和纯度
热蒸发的沉积速率较低，可能导致涂层密度较低。
电子束蒸发的沉积率更高，生成的薄膜纯度更高。
4.常见应用
热蒸发通常用于沉积金属和合金薄膜。
它能生成纯度高、与基底附着力强的薄膜。
电子束蒸发则是沉积难熔金属薄膜和光学薄膜的首选。
5.控制和多功能性
热蒸发比较简单，潜在成本较低。
但它能有效加工的材料类型比较有限。
电子束蒸发通常具有更好的控制性和更高的纯度，可处理的材料范围更广。
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