说到薄膜沉积，最常见的两种方法是热蒸发和分子束外延 (MBE)。
5 个主要区别说明
1.蒸发方法
热蒸发利用热量使材料气化。
而分子束外延则利用高能粒子束精确沉积薄膜。
2.材料适用性
热蒸发适用于蒸汽压较高和熔点较低的材料。
而 MBE 可处理蒸汽压较低、熔点较高的材料。
3.精度和控制
MBE 对沉积过程提供更高的精度和控制。
热蒸发虽然有效，但无法提供同样的精度。
4.沉积速率和纯度
电子束蒸发（MBE 的一种形式）通常具有较高的沉积速率，并能生成密度较低、纯度较高的薄膜。
热蒸发由于坩埚加热，更容易产生杂质。
5.应用重点
MBE 是半导体制造领域先进应用的理想选择。
热蒸发是一种更简单、更直接的普通薄膜沉积技术。
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