物理气相沉积（PVD）是一种用于纳米粒子合成的方法。
它主要用于在表面上沉积薄膜。
这一过程涉及原子级的材料转移。
它在真空条件下进行。
PVD 与化学气相沉积（CVD）不同。
在 PVD 中，前驱体为固体形式，而 CVD 使用气态前驱体。
4 个关键步骤说明
1.蒸发
PVD 的第一步是蒸发固体材料。
这通常是通过热能实现的。
热能使固体源材料蒸发。
蒸发过程可通过真空或热蒸发、离子镀和溅射等各种技术来实现。
2.运输
材料一旦气化，就会以蒸汽的形式运输。
运输是通过真空或低压气态或等离子环境进行的。
这一步骤可确保气化颗粒从源到基底的有效移动。
在此过程中，损失或污染极小。
3.反应
在某些情况下，沉积过程中会引入反应气体。
这就是所谓的反应沉积。
这一步骤可改变沉积薄膜的化学成分和性质。
4.沉积
最后一步涉及气化原子或分子的凝结和成核。
这一过程发生在基底表面。
这就形成了薄膜。
厚度从几纳米到千分之一纳米不等。
PVD 尤其适用于纳米技术。
它能够在原子尺度上形成均匀的薄膜。
它已成功用于纳米线和纳米球的生长。
该工艺通常是将粉末状的高纯度氧化物在高温下升华。
通过控制冷却实现温度梯度。
这有助于形成特定的纳米结构。
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