溅射率是材料科学领域的一个重要概念。
它指的是每秒从目标材料表面去除的单层数量。
该速率受多个因素影响。
其中一个主要因素是溅射产率。
溅射产率是指每个入射离子喷射出的原子数。
它主要取决于目标材料、轰击粒子的质量和轰击粒子的能量。
另一个因素是目标材料的摩尔重量。
材料密度也是一个因素。
最后，离子电流密度也是一个重要因素。
在溅射沉积过程中，溅射速率是一个重要参数。
它决定了目标材料被去除并沉积到样品表面的速率。
然而，溅射速率会因若干条件的不同而变化。
这些条件包括溅射电流、溅射电压、压力、靶材到样品的距离、溅射气体、靶材厚度和样品材料。
由于这些参数的复杂性和可变性，计算准确的沉积速率可能比较困难。
因此，建议使用厚度监控器来测量实际沉积的涂层厚度。
还需要注意的是，溅射率测量的是从靶材上去除的材料量。
另一方面，沉积速率测量的是沉积在样品表面的目标材料量。
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