热蒸发是一种物理气相沉积（PVD）技术，用于在基底上沉积薄膜。
这种方法是在高真空环境中加热材料，直至其汽化。
然后，汽化的分子在基底上凝结，形成薄膜。
什么是热蒸发沉积法？(4 个关键步骤说明）
1.高真空环境
工艺开始于真空室。
这对于防止沉积过程中气体微粒的干扰至关重要。
真空由真空泵维持，确保源材料周围的压力较低。
这可提高蒸发效率。
2.加热材料
要沉积的材料（称为蒸发剂）被放置在由钨或钼等耐火材料制成的坩埚或坩埚舟中。
通常通过焦耳加热将容器加热到足以使材料汽化的温度。
3.蒸汽传输和凝结
汽化后，分子穿过真空到达基底。
与较冷的基底接触后，蒸汽凝结，形成薄膜。
此过程可重复进行，使薄膜进一步生长和成核。
4.多功能性
热蒸发技术用途广泛，能够沉积包括铝、银、镍等金属在内的多种材料。
这种多功能性以及工艺的简易性使热蒸发成为实验室和工业环境中的热门选择。
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