知识 什么是薄膜法?4 大要点解析
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

什么是薄膜法?4 大要点解析

薄膜法是指在基底上沉积一层材料的过程。

这些层的厚度通常从几分之一纳米到几微米不等。

这种方法在电子学、光学和能量存储等各种应用中至关重要。

这一过程包括从源发射粒子,将粒子传送到基底,并在表面凝结。

关键技术包括化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。

家用镜子就是薄膜实际应用的一个例子。

4 个要点说明:

什么是薄膜法?4 大要点解析

1.薄膜的定义和厚度

薄膜是厚度从几纳米到几微米不等的材料层。

这些薄膜是许多技术应用的基本组成部分,包括电子学、光学和能量存储。

2.沉积过程

沉积过程包括三个主要步骤:从源发射微粒、将这些微粒传送到基底以及在基底表面凝结微粒。

这一过程受到控制,以确保薄膜的精确厚度和成分。

3.沉积技术

化学气相沉积(CVD): 将基底置于真空室中,加热化学前驱体使其气化,并在基底表面发生化学反应形成薄膜。

物理气相沉积(PVD): 包括蒸发和溅射等方法,通过物理方式将颗粒从源喷射出来,沉积到基底上。

其他技术包括旋涂,用于以均匀的方式沉积薄膜。

4.薄膜的应用

电子: 薄膜可用于半导体器件、集成无源器件和发光二极管。

光学: 例如家用镜子中使用的抗反射涂层和反射涂层。

能源: 薄膜可用于薄膜太阳能电池和电池。

制药: 正在开发薄膜给药系统。

装饰和保护涂层: 薄膜用于装饰目的,并为切削工具提供保护涂层。

历史发展

薄膜技术在 20 世纪得到了长足的发展,使各行各业都取得了突破性进展。

新沉积技术的发展扩大了薄膜的应用范围。

薄膜实例

家用镜子: 一个典型的例子是在玻璃片背面沉积一层薄薄的金属涂层,形成一个反射表面。

磁性记录介质: 薄膜用于数据记录的磁性存储设备。

通过了解这些要点,实验室设备采购人员可以就研究或生产过程中特定应用所需的薄膜沉积方法和设备类型做出明智的决定。

继续探索,咨询我们的专家

使用 KINTEK SOLUTION 设备,让您的薄膜研究或生产达到更高的精度和效率。KINTEK SOLUTION 的 最先进的设备,让您的薄膜研究或生产的精度和效率更上一层楼。

我们专业设计的 CVD 和 PVD 系统可对薄膜厚度和成分进行无与伦比的控制,这对电子、光学和储能应用至关重要。

今天就联系我们,进行个性化咨询,了解我们的尖端技术如何改变您的实验室能力!

相关产品

半球形底部钨/钼蒸发舟

半球形底部钨/钼蒸发舟

用于镀金、镀银、镀铂、镀钯,适用于少量薄膜材料。减少薄膜材料的浪费,降低散热。

薄层光谱电解槽

薄层光谱电解槽

了解我们的薄层光谱电解槽的优势。耐腐蚀、规格齐全、可根据您的需求定制。

实验室用浮法钠钙光学玻璃

实验室用浮法钠钙光学玻璃

钠钙玻璃作为薄膜/厚膜沉积的绝缘基板广受欢迎,它是通过将熔融玻璃浮在熔融锡上制成的。这种方法可确保厚度均匀,表面特别平整。

高纯度钛箔/钛板

高纯度钛箔/钛板

钛的化学性质稳定,密度为 4.51 克/立方厘米,高于铝,低于钢、铜和镍,但其比强度在金属中排名第一。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

电池用碳纸

电池用碳纸

薄质子交换膜电阻率低;质子传导率高;氢渗透电流密度低;使用寿命长;适用于氢燃料电池和电化学传感器中的电解质分离器。

手持式涂层厚度

手持式涂层厚度

手持式 XRF 涂层厚度分析仪采用高分辨率 Si-PIN(或 SDD 硅漂移探测器),具有出色的测量精度和稳定性。无论是用于生产过程中涂层厚度的质量控制,还是用于来料检验的随机质量检查和完整检验,XRF-980 都能满足您的检验需求。

镍泡沫

镍泡沫

泡沫镍是一种高科技深加工,将金属镍制成泡沫海绵,具有三维全透网状结构。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

钼/钨/钽蒸发舟

钼/钨/钽蒸发舟

蒸发舟源用于热蒸发系统,适用于沉积各种金属、合金和材料。蒸发舟源有不同厚度的钨、钽和钼,以确保与各种电源兼容。作为一种容器,它可用于材料的真空蒸发。它们可用于各种材料的薄膜沉积,或设计成与电子束制造等技术兼容。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

镀铝陶瓷蒸发舟

镀铝陶瓷蒸发舟

用于沉积薄膜的容器;具有铝涂层陶瓷本体,可提高热效率和耐化学性。

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石:导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石,是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

用于锂电池的铝箔集流器

用于锂电池的铝箔集流器

铝箔表面非常干净卫生,不会滋生细菌或微生物。它是一种无毒、无味的塑料包装材料。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

高导热薄膜石墨化炉

高导热薄膜石墨化炉

高导热薄膜石墨化炉温度均匀,能耗低,可连续运行。

光学视窗

光学视窗

金刚石光学窗口:具有优异的宽带红外透明度、出色的导热性和低红外散射,适用于高功率红外激光和微波窗口应用。

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,用于精确反应。立即订购!

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

硅(Si)被广泛认为是近红外(NIR)范围(约 1 μm 至 6 μm)应用中最耐用的矿物和光学材料之一。

带真空站 CVD 机的分室 CVD 管式炉

带真空站 CVD 机的分室 CVD 管式炉

带真空站的高效分室 CVD 炉,可直观检查样品并快速冷却。最高温度可达 1200℃,采用精确的 MFC 质量流量计控制。

陶瓷蒸发舟套装

陶瓷蒸发舟套装

它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石:一种多功能材料,可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能,应用于电子、光学、传感和量子技术领域。


留下您的留言