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热蒸发仪的真空度通常保持在 10^-5 托或更低的压力。这种高真空环境对热蒸发过程至关重要，可确保蒸发分子的平均自由路径足够长，以防止与腔室中的气体分子发生碰撞，从而对沉积薄膜的质量产生负面影响。
说明：
真空在热蒸发中的重要性：
热蒸发是在真空室中加热材料，直到其表面原子获得足够的能量离开表面并沉积到基底上的过程。真空环境至关重要，因为它允许蒸发的原子或分子从源头到基底，而不会发生明显的碰撞，从而保持了原子或分子的方向完整性，进而保证了涂层的质量。最佳真空度：
热蒸发的最佳真空度通常约为 10^-5 托。在此压力下，分子的平均自由路径约为 1 米，这对于蒸发源和基底之间的距离在 200 毫米到 1 米之间的大多数热蒸发装置来说是足够的。这就确保了蒸发的颗粒能够走完这段路程，而不会因为碰撞而严重偏离路径。
真空系统设置：
现代热蒸发仪通常使用涡轮分子泵，能够快速高效地实现低压。这些泵通常由旋片泵、干式涡旋泵或多级罗茨泵提供支持，帮助将蒸发室从大气压力抽空至运行所需的基本压力。设置的目的是尽量减少碎片落入泵内，并保持清洁、高效的真空环境。
控制和监测：
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