知识 射频溅射中如何产生等离子体?5 个关键步骤详解
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

射频溅射中如何产生等离子体?5 个关键步骤详解

射频溅射是通过在真空环境中应用高频交变电场来产生等离子体的。

这种方法对绝缘目标材料特别有效,因为它可以防止电荷积聚而导致质量控制问题。

射频溅射是如何产生等离子体的?5 个关键步骤说明

射频溅射中如何产生等离子体?5 个关键步骤详解

1.应用射频功率

在射频溅射中,使用射频(通常为 13.56 MHz)电压源。

该高频电压与电容器和等离子体串联。

电容器在分离直流分量和保持等离子体电气中性方面起着至关重要的作用。

2.等离子体的形成

射频电源产生的交变磁场会在两个方向上交替加速离子和电子。

在频率超过约 50 kHz 时,由于离子的电荷质量比小于电子,因此无法再跟随快速变化的场。

这使得电子能够在等离子体区域内更自由地摆动,从而导致与氩原子(或其他惰性气体)频繁碰撞。

这些碰撞会使气体电离,形成高密度等离子体。

3.增强等离子体密度和压力控制

射频溅射实现的高等离子体密度可显著降低工作压力(低至 10^-1 - 10^-2 Pa)。

这种较低的压力环境可形成与在较高压力下生产的薄膜相比具有不同微观结构的薄膜。

4.防止电荷积聚

射频溅射中的交变电势在每个周期中都能有效 "清除 "目标表面的任何电荷积聚。

在正半周,电子被吸引到靶材上,使其产生负偏压。

在负循环期间,离子继续轰击靶材,确保溅射持续进行。

5.射频溅射的优点

与直流溅射相比,射频等离子体倾向于更均匀地扩散到整个腔体,而直流溅射的等离子体往往集中在阴极周围。

这种均匀分布可使整个基底的涂层特性更加一致。

总之,射频溅射通过使用高频交变电场电离真空中的气体来产生等离子体。

这种方法的优势在于能够防止电荷在绝缘目标上积聚,并能在较低的压力下工作,从而形成具有可控微结构的高质量薄膜。

继续探索,咨询我们的专家

使用 KINTEK SOLUTION 的精密设备,探索射频溅射的尖端技术。

我们的技术利用高频交变电场的优势产生无与伦比的等离子体,是绝缘靶材和减少电荷积聚的完美选择。

体验我们射频溅射系统的一致性和质量--利用 KINTEK SOLUTION 的专业知识提升您的研究和生产水平。

立即联系我们,了解我们的解决方案如何优化您的薄膜应用!

相关产品

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

火花等离子烧结炉 SPS 炉

火花等离子烧结炉 SPS 炉

了解火花等离子烧结炉在快速、低温材料制备方面的优势。加热均匀、成本低且环保。

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

KT-PE12 滑动 PECVD 系统:功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

高纯铂(Pt)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯铂(Pt)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯度铂 (Pt) 溅射靶材、粉末、金属丝、块和颗粒,价格实惠。根据您的特定需求量身定制,为各种应用提供不同的尺寸和形状。

真空管热压炉

真空管热压炉

利用真空管式热压炉降低成型压力并缩短烧结时间,适用于高密度、细粒度材料。是难熔金属的理想选择。

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

利用我们的真空感应熔炼炉获得精确的合金成分。是航空航天、核能和电子工业的理想之选。立即订购,有效熔炼和铸造金属与合金。

真空热压炉

真空热压炉

了解真空热压炉的优势!在高温高压下生产致密难熔金属和化合物、陶瓷以及复合材料。

真空电弧炉 感应熔化炉

真空电弧炉 感应熔化炉

了解真空电弧炉在熔化活性金属和难熔金属方面的强大功能。高速、脱气效果显著、无污染。立即了解更多信息!

真空牙科烤瓷烧结炉

真空牙科烤瓷烧结炉

使用 KinTek 真空陶瓷炉可获得精确可靠的结果。它适用于所有瓷粉,具有双曲陶瓷炉功能、语音提示和自动温度校准功能。

1400℃ 可控气氛炉

1400℃ 可控气氛炉

使用 KT-14A 可控气氛炉实现精确热处理。它采用真空密封,配有智能控制器,是实验室和工业应用的理想之选,最高温度可达 1400℃。

高纯度铁(Fe)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯度铁(Fe)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在寻找经济实惠的实验室用铁 (Fe) 材料吗?我们的产品系列包括各种规格和尺寸的溅射靶材、涂层材料、粉末等,可满足您的特定需求。请立即联系我们!

30T / 40T / 60T 全自动实验室 XRF 和 KBR 压粒机

30T / 40T / 60T 全自动实验室 XRF 和 KBR 压粒机

使用 KinTek 自动实验室压丸机快速、轻松地制备 X 射线样品颗粒。X 射线荧光分析功能多样,结果准确。

实验室真空倾斜旋转管加热

实验室真空倾斜旋转管加热

了解实验室旋转炉的多功能性:煅烧、干燥、烧结和高温反应的理想选择。可调节旋转和倾斜功能,实现最佳加热效果。适用于真空和可控气氛环境。立即了解更多信息!

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

根据您的独特需求,为您提供经济实惠的实验室用钴(Co)材料。我们的产品范围包括溅射靶材、粉末、箔等。如需定制解决方案,请立即联系我们!

铁镓合金 (FeGa) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铁镓合金 (FeGa) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格找到高品质的实验室用铁镓合金 (FeGa) 材料。我们可根据您的独特需求定制材料。查看我们的规格和尺寸范围!

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

使用我们的真空熔融纺丝系统,轻松开发可蜕变材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购,获得有效成果。

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

使用我们的真空悬浮熔炼炉体验精确熔炼。采用先进技术进行有效熔炼,是高熔点金属或合金的理想之选。立即订购,获得高质量的结果。

1700℃ 可控气氛炉

1700℃ 可控气氛炉

KT-17A 可控气氛炉:1700℃ 加热、真空密封技术、PID 温度控制和多功能 TFT 智能触摸屏控制器,适用于实验室和工业用途。


留下您的留言