知识 5 种主要碳化硅 (SiC) 合成方法详解
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

5 种主要碳化硅 (SiC) 合成方法详解

碳化硅(SiC)是通过各种方法合成的,每种方法都有其独特的工艺和优点。

1.固态反应法

5 种主要碳化硅 (SiC) 合成方法详解

这种方法使用二氧化硅和活性炭作为原料。

二氧化硅通过碱提取和溶胶-凝胶法从硅稻壳中获得。

2.升华法

这种方法涉及受控升华碳化硅。

外延石墨烯是通过电子束或电阻加热对碳化硅基底进行热分解来实现的。

该过程在超高真空 (UHV) 中进行,以最大限度地减少污染。

硅解吸后,SiC 硅片表面多余的碳重新排列,形成六方晶格。

然而,这种方法成本较高,而且大规模生产需要大量的硅。

3.化学气相沉积(CVD)法

化学气相沉积法用于 SiC 薄膜的生长。

源气体的选择取决于基底的热稳定性。

例如,硅烷(SiH4)在 300 至 500 ℃ 之间沉积,二氯硅烷(SiCl2H2)在 900 ℃ 左右沉积,正硅酸四乙酯(Si(OC2H5)4)在 650 至 750 ℃ 之间沉积。

这一过程会形成一层低温氧化物(LTO)。

然而,与其他方法相比,硅烷产生的氧化物质量较低。

CVD 氧化物的质量通常低于热氧化物。

4.CVD 在碳化硅上生长石墨烯

在碳化硅上用 CVD 制备石墨烯是一种新型技术,它具有更多的通用性,并通过考虑各种参数来影响石墨烯层的质量。

在碳化硅上进行 CVD 制备的关键因素是温度较低,这可以防止碳化硅原子扩散到碳化硅晶体的主体中。

这将导致在基底和石墨烯单层之间形成针刺点,从而获得所需的独立石墨烯。

这种技术适用于大规模制造 CVD 石墨烯。

5.多晶金属上的 CVD 石墨烯

SiC 也可用于在多晶金属上通过 CVD 生长石墨烯。

这种方法利用了 SiC 的耐磨和高温强度特性。

反应结合碳化硅法是将碳化硅和碳的混合物制成的压实物渗入液态硅中,液态硅与碳反应形成碳化硅。

烧结碳化硅法是用纯碳化硅粉末和非氧化物烧结助剂制成碳化硅,并在惰性气氛中高温烧结。

以上是碳化硅的几种合成方法,每种方法都有其优点和局限性。

继续探索,咨询我们的专家

您在寻找用于 SiC 和 SiO2 合成方法的高质量实验室设备吗? KINTEK是您值得信赖的供应商!

我们是您值得信赖的供应商,提供各种设备以满足您的合成需求。

从固态反应方法到可控升华方法,我们都能满足您的需求。

不要在质量或成本上妥协,选择 KINTEK 满足您对实验室设备的所有需求。

立即联系我们,了解更多信息并下订单!

相关产品

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的碳化硅 (SiC) 材料?别再犹豫了!我们的专家团队以合理的价格根据您的确切需求生产和定制碳化硅材料。立即浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品系列。

碳化硅(SIC)陶瓷板

碳化硅(SIC)陶瓷板

氮化硅陶瓷是一种在烧结过程中不会收缩的无机材料陶瓷。它是一种高强度、低密度、耐高温的共价键化合物。

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(原文如此)陶瓷片由高纯度碳化硅和超细粉组成,经振动成型和高温烧结而成。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

碳化硅(SiC)加热元件

碳化硅(SiC)加热元件

体验碳化硅 (SiC) 加热元件的优势:使用寿命长、耐腐蚀、抗氧化、加热速度快、易于维护。立即了解更多信息!

高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

高纯硅(Si)溅射靶材/粉/丝/块/粒

正在为您的实验室寻找高品质的硅(Si)材料?别再犹豫了!我们定制生产的硅(Si)材料有各种纯度、形状和尺寸,可满足您的独特要求。请浏览我们精选的溅射靶材、粉末、箔等产品。立即订购!

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅板在高温下性能均匀,是冶金工业中常用的陶瓷材料。

钛硅合金 (TiSi) 溅射靶材/粉/丝/块/粒

钛硅合金 (TiSi) 溅射靶材/粉/丝/块/粒

了解我们经济实惠的实验室用钛硅合金 (TiSi) 材料。我们的定制生产为溅射靶材、涂层、粉末等提供各种纯度、形状和尺寸。为您的独特需求找到完美匹配。

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

硅化钴 (CoSi2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(原文如此)陶瓷散热器不仅不会产生电磁波,还能隔离电磁波和吸收部分电磁波。

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找二氧化硅材料?我们专业定制的二氧化硅材料有各种纯度、形状和尺寸。立即浏览我们的各种规格产品!

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。


留下您的留言