PVD(物理气相沉积)中的蒸发法是利用热能使固体材料在真空环境中气化,然后在基底上凝结成薄膜。这种工艺是最简单的 PVD 形式之一,因其简单有效而被广泛使用。
PVD 蒸发法摘要:
PVD 中的蒸发法主要使用热蒸发,即使用电阻热源将材料加热到熔点或熔点以上,使其蒸发。蒸发后的材料形成蒸汽流,通过真空室沉积到基底上,形成薄膜。这种方法特别适用于沉积金属和其他可承受高温而不会降解的材料。
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详细说明:加热材料:
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在热蒸发法中,要沉积的材料被放置在一个容器中,通常称为船或篮子,然后使用电阻热源对其进行加热。这种热源通常是将高电流通过容器,从而产生足够的热量将材料的温度提高到熔点,并进一步提高到汽化点。
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真空蒸发:
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整个过程在高真空室中进行。真空环境至关重要,因为它可以最大限度地减少空气分子的存在,否则空气分子可能会与蒸发材料发生反应或导致其过早凝结。真空还能确保蒸汽流畅通无阻地到达基底。在基底上沉积:
蒸发后,材料形成蒸汽流,在真空室中移动。然后,气流遇到基底,在基底上凝结并形成薄膜。薄膜的特性,如厚度和均匀性,可通过调节蒸发速度以及源和基底之间的距离来控制。
应用: