物理气相沉积（PVD）是一种在真空环境中将固体材料转化为气相状态的工艺。
然后将这种蒸气沉积到基底上形成薄膜涂层。
物理气相沉积因能形成具有优异机械、化学和光学性能的涂层而闻名。
这些特性提高了不同行业各种产品的性能。
了解物理气相沉积的 4 个关键步骤
1.材料气化
在物理气相沉积过程中，首先要蒸发一种固体材料，通常称为 "靶材"。
靶材可以由钛、锆、铬等金属或其他金属元素制成。
气化主要通过两种方法进行："溅射 "或 "电弧放电"。
在溅射过程中，目标材料受到高能粒子的轰击，导致原子从目标材料中喷射出来。
在电弧放电中，使用高电流、低电压电弧使目标材料气化。
2.运输和反应
材料一旦汽化，就会以原子或离子的形式通过真空室传送到基底。
在某些情况下，会将氮气等活性气体引入真空室。
金属离子和活性气体之间的相互作用会导致化学反应，形成有助于最终涂层特性的化合物。
3.沉积
气化后的材料在基材表面凝结，形成薄膜。
这种沉积是逐个原子进行的，可确保较强的附着力。
它允许使用多种材料对金属、塑料、玻璃和陶瓷等各种基材进行涂层。
4.PVD 涂层的特点
PVD 涂层以高硬度、耐磨性和耐用性著称。
由于该工艺在真空条件下进行，可最大限度地减少对环境的污染，因此也非常环保。
由于能够精确控制沉积过程，因此可以根据不同应用的需要制造出具有特定性能的涂层。
这些特性包括提高耐腐蚀性、增强光学特性或增加硬度。
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