知识 CVD 机器的流程是什么?(6 个步骤说明)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

CVD 机器的流程是什么?(6 个步骤说明)

化学气相沉积(CVD)工艺是通过前驱气体的反应在基底上沉积薄膜。

这一过程在半导体制造、材料涂层和纳米材料制造等各种应用中至关重要。

6 个步骤说明

CVD 机器的流程是什么?(6 个步骤说明)

1.引入前驱体气体

该过程始于将前驱气体引入反应室。

这些气体通常通过气体管理系统供应,并流入加热的石英管。

2.反应和沉积

当气体流过加热的基底时,它们会发生反应并分解,在基底表面沉积出一层薄膜。

这种反应的发生得益于腔室内的高温和可控压力。

3.边界层的形成

当气体速度在基底处降至零时,就会形成边界层,从而促进沉积过程。

4.成核和生长

受基底温度、几何形状和化学成分等各种因素的影响,临界尺寸的晶簇或晶核形成并成长为稳定的晶体。

5.前驱体的蒸发和控制

液态或固态前驱体被加热成气态后进入反应器。

气体蒸发的速度受到严格控制,以达到所需的薄膜厚度。

6.动力学和热力学

该工艺涉及复杂的反应动力学和热力学,需要高温和低压才能实现高效沉积。

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