化学气相沉积（CVD）是一种广泛用于合成薄膜和纳米粒子的方法，其特点是通过气态前驱体在加热基底上的反应沉积高质量的材料。这种方法是通过气态化合物的分解和结合，在基底表面形成稳定的固态产物。
答案摘要：
化学气相沉积（CVD）是一种合成方法，气态前驱体在加热的基底上发生反应或分解，形成薄膜和纳米粒子。这种工艺能够生产出高纯度、高硬度和高耐性的优质材料，因而备受推崇。
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详细说明：工艺概述：
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在 CVD 中，反应气体（如 SiH4、SiCl4、WF6）和载气（如 H2、Ar）的混合物被提供给基底。气体在高温下发生反应或分解，在基底上形成一层薄薄的材料。这种方法用途广泛，能够沉积多种材料，包括石墨烯和各种金属化合物。
- 关键反应：
- CVD 工艺主要涉及两种反应：分解反应：
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气态化合物在加热后分解成其元素部分。结合反应：
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然后这些元素部分在基底上结合形成所需的材料。这些反应需要在温度和压力受控的条件下进行，以促进键的断裂和重整，类似于水在不同条件下的蒸发。
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优势和应用：
化学气相沉积法因其高产能和扩大生产规模的能力而特别具有优势。生产出的材料通常纯度很高，并具有优异的机械性能，因此适用于电子、光学和保护涂层领域的各种应用。
工艺变化：
