知识 什么是热蒸发薄膜沉积工艺?(4 个关键步骤)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是热蒸发薄膜沉积工艺?(4 个关键步骤)

热蒸发是物理气相沉积(PVD)的一种方法,包括在高真空室中加热固体材料以产生蒸汽,然后以薄膜的形式沉积到基底上。

这种工艺广泛应用于工业领域,例如在太阳能电池、薄膜晶体管、半导体晶片和碳基有机发光二极管中形成金属结合层。

热蒸发薄膜沉积的 4 个关键步骤

什么是热蒸发薄膜沉积工艺?(4 个关键步骤)

1.高真空环境设置

热蒸发的第一步是在沉积室中设置高真空环境。

这种环境至关重要,因为它能去除可能干扰沉积过程的气体颗粒。

真空泵用于维持这种环境,确保压力足够低,以防止蒸气和残留气体分子之间发生任何不必要的相互作用。

2.加热源材料

源材料,即要沉积的物质,在真空室中被加热到高温。

这种加热可以通过电阻加热或电子束蒸发(e-beam evaporation)等各种方法实现。

高温会使物质汽化,产生蒸汽压。

3.蒸汽传输和沉积

气化的材料形成蒸汽流,在真空室中流动。

在这种环境下,蒸汽可以在不与其他原子发生反应或散射的情况下移动。

然后,它到达基底,在那里凝结并形成薄膜。

基底通常是预先定位的,以确保蒸汽的最佳沉积效果。

4.形成薄膜

蒸汽在基底上凝结后形成薄膜。

薄膜的厚度和均匀性可以通过调整沉积时间和源材料的温度来控制。

重复沉积循环可促进薄膜的生长和成核。

应用和变化

电子束蒸发

这种变化使用高能电子束蒸发源材料,特别适用于需要较高温度才能蒸发的材料。

它常用于太阳能电池板和玻璃的生产。

热蒸发

这是一种更简单的 PVD 技术,直接加热源材料使其蒸发。

它对制造 OLED 和薄膜晶体管非常有效,因为在这些产品中,精确和均匀的涂层是必不可少的。

热蒸发是一种多功能、可靠的薄膜沉积方法,可控制薄膜特性,适用于各行各业。

它的简单性和有效性使其成为薄膜制造行业的基石技术。

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