物理气相沉积（PVD）是在高温真空条件下，通过冷凝气化的固体材料，在基底上沉积薄膜或涂层的一种工艺。
物理气相沉积的产物是一种薄、硬、耐腐蚀的涂层，具有耐高温性和与基体的强附着力。
5 个要点说明
1.工艺概述
PVD 包括几个关键步骤。
气化： 通常通过大功率电力或激光加热，将固体前驱体材料转化为蒸汽。
运输： 气化后的材料在低压区域内移动，从源头到基底。
冷凝： 蒸汽在基底上凝结，形成薄膜或涂层。
2.使用的技术
溅射： 最常见的方法，通过离子轰击将原子从目标材料中喷射出来，然后沉积到基底上。
蒸发： 不太常见，涉及源材料的热蒸发，然后沉积在基底上。
3.产品特性
硬度和耐腐蚀性： PVD 涂层以耐用、耐磨和耐腐蚀而著称，是汽车、航空航天和电子等各行业应用的理想选择。
耐高温： 这些涂层可耐高温而不降解，这对于涉及耐热性的应用至关重要。
附着力： PVD 涂层与基材有很强的附着力，可降低分层或分离的风险。
4.环境因素
PVD 被认为是一种环保工艺，因为它不使用有害化学品，产生的废物也极少。
5.应用和变体
PVD 可用于各种应用，包括纯金属、合金和陶瓷的沉积。
PVD 的主要变体包括真空或热蒸发、离子镀和溅射，每种变体都有特定的材料蒸发和沉积机制。
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