基底在化学气相沉积（CVD）中的作用至关重要，因为它是沉积各种材料薄膜的基础。基底的特性、制备和温度都会对沉积过程和所得薄膜的质量产生重大影响。
基底在 CVD 中的作用概述：
CVD 中的基底是反应气体相互作用形成薄膜的场所。基底的温度至关重要，因为它会引发沉积所需的化学反应。对基底进行适当的预处理和维护可确保沉积层具有最佳的附着力和均匀性。
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详细说明：温度控制：
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将基底加热到特定温度对引发和控制反应气体之间的化学反应至关重要。必须仔细控制这一温度，以确保反应有效进行，并防止损坏基底或沉积薄膜。热量会分解反应物分子，使其沉积到基底表面。
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预处理和清洁：
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在沉积之前，基底要经过机械和化学清洗过程，如超声波清洗和蒸汽脱脂。这种预处理对于去除污染物和确保沉积薄膜与基底良好粘合至关重要。此外，沉积反应室也必须清洁、无尘、无湿气，以防止任何杂质影响薄膜质量。对薄膜质量和特性的影响：
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基底材料和表面条件对沉积薄膜的性能有很大影响。例如，薄膜的均匀性、厚度和附着力都会受到基底特性的影响。CVD 用于生成具有特定性能的均匀薄膜，因此基底的选择和制备对于获得理想的结果至关重要。
支持各种应用：
