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了解 LPCVD 和 PECVD 之间的主要区别：LPCVD 提供卓越的薄膜质量，而 PECVD 则实现低温处理和高速。
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LPCVD温度范围为250°C至850°C，具体取决于材料。了解如何为多晶硅、氮化硅和氧化物选择合适的温度。
CVD涂层温度范围为200°C至1100°C。了解如何为您的基材和涂层目标选择合适的CVD工艺。
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LPCVD 的温度不是固定的；它取决于材料。了解多晶硅、氮化硅、二氧化硅和钨的具体范围。
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