化学气相沉积（CVD）是用于制造薄膜和涂层的关键技术。它在半导体工业中尤为重要。
化学气相沉积在制造中的 5 大应用
1.薄膜和涂层
化学气相沉积是指通过气态前驱体的化学反应将材料沉积到基底上。这一工艺对于制造均匀、高质量的薄膜和涂层至关重要。沉积的材料可从金属到绝缘体，具体取决于应用的特定要求。
2.半导体工业
在半导体行业，CVD 在制造过程中发挥着重要作用。它用于沉积对半导体器件功能至关重要的各种材料层。例如，在 CMOS 技术的生产过程中，CVD 用于沉积硅、二氧化硅和其他材料层，这些材料层是这些设备的基础。
3.CMOS 技术
CMOS 技术是制造集成电路、微处理器和存储芯片的主流技术。在 CMOS 制造过程中，CVD 用于栅极氧化物、多晶硅和各种介电层的沉积。这些层对于设备的运行和性能至关重要。
4.二维材料的可扩展合成
CVD 也是一种很有前途的可扩展合成二维（2D）材料的方法。这些材料具有独特的性能，因此在包括电子和能量存储在内的各种应用中都很有价值。虽然商用 CVD 系统价格昂贵，但开源设计的开发使这项技术更容易获得。
5.精度和控制
CVD 以其精确性和可控性而著称，可制造出具有非常具体的特征和特性的薄膜。在半导体器件和太阳能电池等对材料性能要求极高的行业中，这种控制水平至关重要。
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