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了解传统溅射的工作原理:一种利用离子轰击来制造用于电子和光学领域的高度均匀、纯净薄膜的物理气相沉积(PVD)工艺。
了解磁控溅射如何利用磁场为光学、电子设备和对温度敏感的基板制造高质量、均匀的薄膜。
了解磁控溅射如何利用磁场以高沉积速率、低温和优异的附着力来制造卓越的薄膜。
了解溅射系统如何在真空中沉积超薄膜。探索从等离子体点火到磁控管增强以实现精确涂层的过程。
了解催化剂辅助CVD如何实现低温薄膜沉积以及用于先进材料的纳米线和碳纳米管的精确生长。
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了解真空镀膜如何为电子产品、光学元件和耐用表面制造超纯、均匀的金属涂层。了解其工艺和优势。
了解电子束蒸发如何用于高纯度光学涂层、电子设备和航空航天部件的制造。是高熔点材料的理想选择。
了解真空沉积如何实现材料的逐原子沉积,以获得高纯度的纳米结构,从而提高耐用性和光学性能。
了解磁控溅射的工作原理:一种用于在各种基板上制造超纯、均匀薄膜的高真空PVD技术。
了解磁控溅射的工作原理、其在薄膜沉积方面的关键优势,以及为何它成为电子、光学和敏感材料的理想选择。
了解直流磁控溅射如何利用磁场产生致密等离子体,从而在导电材料上实现高效、高纯度的薄膜镀膜。
了解磁控溅射的物理学原理,这是一种高效的 PVD 工艺,用于在研究和制造中创建致密、纯净且均匀的薄膜。
了解溅射涂层如何将导电层沉积到SEM样品上,以消除荷电、防止图像失真并确保分析准确性。
溅射需要两种不同的压力:用于清洁度的高真空基底压力,以及用于等离子体稳定性和薄膜质量的 1-100 mTorr 工作压力。
了解磁控溅射如何利用磁场高效地制造高质量、均匀的薄膜,应用于光学、半导体等领域。
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了解热解如何将废塑料和生物质转化为燃料、化学品和生物炭,从而推动循环经济和碳捕集目标。
了解热解技术如何在无氧过程中将生物质转化为有价值的能源和产品,如生物油和生物炭,为燃烧提供可持续的替代方案。
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通过控制衬底温度、沉积速率和能量来掌握薄膜生长。了解这些因素如何决定薄膜结构和性能。
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热解将生物质和塑料废物等有机材料热分解为有价值的生物油、生物炭和合成气,用于能源和化学品。
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热解不会产生传统意义上的排放物,而是产生有价值的生物炭、生物油和合成气。了解如何根据您的目标控制这些产出。
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