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了解原子层沉积（ALD）如何通过自限制表面反应和精确的逐层生长，在复杂的三维结构上实现完美的共形性。
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MOCVD沉积速率可从纳米/小时到微米/小时调节。了解温度、压力和流量如何控制您应用的生长速度和质量。
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