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了解筛分运动、时间和材料特性如何影响筛分精度和效率，以实现可靠的粒度分离。
了解筛分时间、运动、样品质量和材料特性如何影响粒度分析的准确性和重复性。
了解筛分机速度：电机转速、振动频率、振幅和吞吐量。学习平衡设置以实现最佳分离。
比较试验筛、激光衍射、动态光散射和图像分析，以找到最适合您需求的粒度分析设备。
了解用于准确粒度分析的测试筛规格（ASTM E11、ISO 3310-1），包括选择、维护和认证。
了解筛分分析为何在从建筑到制药等行业中对质量控制、材料选择和工艺优化至关重要。
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探讨溅射的主要缺点，包括沉积速率慢、衬底加热、材料限制以及实验室应用的高运营成本。
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探索离子束溅射 (IBS) 在精密光学、半导体和先进传感器中制造超致密、均匀薄膜的关键应用。
溅射是一种基于动量转移的物理气相沉积工艺，它能够实现高附着力的薄膜和复杂材料的精确化学计量比。
溅射在商业中是一种物理气相沉积（PVD）工艺，用于应用高性能涂层，从而在电子、光学和医疗设备领域实现先进产品。
了解惰性气体的关键风险：无声窒息、高压钢瓶和低温灼伤。为实验室人员提供必要的安全规程。
比较感应加热与电阻加热：速度、精度、效率和应用。了解哪种方法最适合您的实验室或工业流程。
探索射频溅射的工作范围：13.56 MHz，0.5-15 mTorr，1000V。了解它如何实现绝缘体、电介质和优质薄膜的沉积。
了解腔室压力如何决定溅射薄膜的质量，从低压下的致密涂层到高压下的多孔结构。
PVD 涂层厚度范围从纳米到超过 10 微米。了解如何为光学、装饰或耐磨应用选择合适的厚度。
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比较蒸发、溅射和离子镀等PVD工艺。根据附着力、密度和材料兼容性，了解哪种方法最适合您的薄膜应用。
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电子束蒸发使用4-10千伏加速电压来汽化材料。了解这个关键参数如何影响薄膜纯度和沉积速率。
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