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了解离子溅射如何利用受控的原子级沉积技术，为半导体、光学和电子设备制造超薄、均匀的涂层。
探索直流、射频和 HiPIMS 磁控溅射类型。了解如何为导电、绝缘或高性能薄膜沉积选择合适的技术。
了解磁控溅射如何利用磁场捕获电子，从而产生高密度等离子体，实现高速率、均匀的薄膜沉积。
探索CVD石墨烯的关键益处，包括高纯度、大面积可扩展性以及在电子和先进材料领域精确控制层数的能力。
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实验室培育钻石在化学、物理和光学上与天然钻石是相同的。了解它们在起源、成本和价值上的主要区别。
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实验室培育钻石是合法的，与开采钻石在科学上完全相同，并获得主要宝石学机构的认证。了解事实和益处。
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了解真空热蒸发如何为电子、光学和包装领域创造纯净、均匀的薄膜。对材料科学至关重要。
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了解为什么高真空室对于TiO2薄膜CVD至关重要，从控制气体动力学到确保化学纯度和均匀性。
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等离子体热解在无氧环境中使用极高温度将废物转化为合成气和无毒炉渣。了解它与焚烧的区别。
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等离子体热解利用极端高温（3,000-7,000°C）将废物转化为清洁的合成气和惰性炉渣。了解其相对于标准热解的优势。
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探讨原子层沉积（ALD）的关键局限性，包括生长速率慢、前驱体挑战和成本影响。
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